Sonda radarowa VEGAPULS 42 - prostsza automatyzacja fabryk
Dzięki VEGAPULS 42 firma VEGA wnosi swoje bogate doświadczenie w dziedzinie technologii pomiarów radarowych do obszaru automatyzacji. Nowy czujnik poziomu, wyposażony w IO-Link i uniwersalne adaptery higieniczne, to odpowiedź na potrzeby branży: rozwiązywanie złożonych zadań pomiarowych w szybszy, prostszy i tańszy sposób. Sonda przeznaczona jest do wysoce zautomatyzowanych procesów, w których występują szybkie zmiany poziomu i surowe wymagania w zakresie higieny.
Sonda VEGAPULS 42 pracuje na średnich odległościach pomiaru do 15 m oraz przy temperaturach nie wyższych niż 150°C. Jej wyposażenie pozwala na pomiar poziomu w cyklach produkcyjnych, procesach dozowania lub procesach końcowych w systemach przenośników oraz na liniach rozlewniczych. Funkcje VEGAPULS 42 zostały ograniczone do tego, co niezbędne. Czujnik jest skrojony na miarę standardowych aplikacji, w których więcej funkcjonalności tylko komplikowałoby pracę. Bazuje na najlepszym dostępnym obecnie na rynku chipie radarowym – o największym zakresie dynamiki i najbardziej uniwersalnych możliwościach zastosowania.
Aby monitorować bieżące procesy w wysoce wydajny sposób, jednocześnie zoptymalizowany pod względem kosztów, należało poddać ocenie przydatność wszystkich elementów czujnika. Ta sama zasada dotyczyła komunikacji IO-Link, powszechnej w automatyzacji fabryk, umożliwiającej dwukierunkową transmisję danych wraz z rozbudowaną diagnostyką i parametryzacją. W przypadku sond VEGAPULS 42 z IO-Link oznacza to maksymalną jakość sygnału przy minimalnym nakładzie pracy.
Wraz z kompletnym portfolio czujników z IO-Link VEGA wprowadza zalety technologii pomiarów radarowych do szerokiej gamy procesów w automatyzacji fabryk i jeszcze mocniej koncentruje się na sektorach o wysokich wymaganiach higienicznych, takich jak przemysł spożywczy i farmaceutyczny. Radar jest idealnym wyborem w przypadku ciągłego, bezkontaktowego pomiaru poziomu, ponieważ w przeciwieństwie do ultradźwięków jest niewrażliwy na działanie warunków procesowych i otoczenia.
